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        彩色鍍鋁膜,鍍鋁紙,鐳射紙

        真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發和離子濺射。真空蒸發鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環境中,用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發的材料加熱到一定溫度,使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能,從而使大量分子或原子蒸發或升華,并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產生的正離子在電場的作用下的高速運動轟擊作為陰極的靶,使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面,形成所需要的薄膜。

        真空蒸發鍍膜常用的是電阻加熱法,其優點是加熱源的結構簡單,造價低廉,操作方便;缺點是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱,電子束的動能變成熱能,使材料蒸發。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源,但由于大功率激光器的造價很高,目前只能在少數研究性實驗室中使用。

        濺射技術與真空蒸發技術有所不同。“濺射”是指荷能粒子轟擊固體表面(靶),使固體原子或分子從表面射出的現象。射出的粒子大多呈原子狀態,常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子,離子或中性粒子,因為離子在電場下易于加速獲得所需要動能,因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過程建立在輝光放電的基礎上,即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電;三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電;射頻濺射是利用射頻輝光放電;磁控濺射是利用環狀磁場控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發鍍膜相比,有許多優點。如任何物質均可以濺射,尤其是高熔點,低蒸氣壓的元素和化合物;濺射膜與基板之間的附著性好;薄膜密度高;膜厚可控制和重復性好等。缺點是設備比較復雜,需要高壓裝置。此外,將蒸發法與濺射法相結合,即為離子鍍。這種方法的優點是得到的膜與基板間有極強的附著力,有較高的沉積速率,膜的密度高。









        真空鍍鋁膜裝在真空蒸鍍機中,用真空泵抽真空,使鍍膜中的真空度達到1.3×10-2~1.3×10-3Pa,加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃~1400℃的溫度下溶化并蒸發成氣態鋁。氣態鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經冷卻還原即形成一層連續而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度,一般鍍鋁層厚度在25~500nm,鍍鋁薄膜的寬度為800mm~2000mm。    

        目前,華福包裝材料公司的產品已在全國廣泛銷售,秉持真誠的態度,使我們能以需求客戶的立場為出發點,不斷思索顧客的需求,努力超越顧客的期望。供應的真空鍍鋁膜支持以銀行轉賬;當面交易;現金交易的方式支付貨款,并且是通過陸運的物流形式為客戶配送,在售后方面,同時還為客戶準備了的售后服務,確保客戶滿意。    

        華福包裝材料公司生產的真空鍍鋁膜屬于鍍鋁膜,質量優,數量大,價格公道,所售產品均以高l級為主。我司每年可出圃大批真空鍍鋁膜,通過批發;直銷的方式銷往全國各地,得到新老客戶以及需求客戶的一致好評。

        華福包裝材料公司一如既往地嚴格控制產品質量,優化客戶服務體系。通過批發將鍍鋁膜銷往全國各地。本著以質取勝、以人為本、精益求精、嚴格管理的方針,大力加強科技投入,資源配置和新產品開發,為需求群體提供的鍍鋁膜,努力擴大市場網絡,爭創國內實力產品。將陸運作為主打物流方式,本公司以適宜的價格和快捷的配送方式做到全l面滿足客戶的需求。

          作為是目前湖北省品種齊全,質量良好,供貨量大,銷售范圍廣泛的鍍鋁膜生產及銷售商之一,華福包裝材料公司供應的鍍鋁膜不僅具有用于醫l藥、食品、包裝的用途,為了更好地貼近市場和服務客戶,依據客戶的個性需求單獨設計和快捷提供方案,并定向供貨。競爭優勢更強,因而倍受歡迎。

      商盟客服

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